化學(xué)機械拋光（CMP）是集成電路制造過程中實現(xiàn)晶圓全局均勻平坦化的關(guān)鍵工藝，是通過化學(xué)作用和機械研磨的組合技術(shù)來實現(xiàn)晶圓表面微米/納米級不同材料的去除，從而達(dá)到晶圓表面的高度（納米級）平坦化效應(yīng)。拋光材料是 CMP 工藝過程中必不可少的耗材，具有技術(shù)壁壘高，客戶認(rèn)證時間長的特點，一直以來處于寡頭壟斷的格局。

根據(jù)功能的不同，拋光材料可劃分為拋光墊、拋光液、調(diào)節(jié)器、以及清潔劑等，主要以拋光液和拋光墊為主。全球芯片拋光液市場主要被在美國、日本、韓國企業(yè)所壟斷。全球 CMP 拋光墊幾乎全部被陶氏所壟斷，占據(jù)80%的市場。

全球芯片拋光液市場主要被美國、日本、韓國等企業(yè)壟斷，占全球高端市場份額90%以上。CMP拋光墊方面，陶氏杜邦占79%的市場份額。

拋光液方面，目前中國在不銹鋼、鋁、鎢等中低端領(lǐng)域拋光液基本實現(xiàn)國產(chǎn)化。安集微電子率先在高品質(zhì)拋光液技術(shù)方面打破國外壟斷，進(jìn)入晶圓拋光液領(lǐng)域。拋光墊方面，中國企業(yè)在高端拋光墊市場幾乎屬于空白，近年來股份逐步取得突破。